一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗，属于化学气相沉积技术领域。一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗，其特征在于，包括碗主体，碗主体为圆柱体，在碗主体一侧圆表面设置有向内凹陷的凹面，通过凹面对炉内气体浓度低的部位进行补气，利用凹面直径的大小变化以及凹面向碗主体内凹陷的深度来改变补气的区域，使反应气体的气流分布均匀，充分利用炉内反应气体，改善大坩埚的表面厚度均匀性，提高反应气体的利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于大直径坩埚改变CVD气流方向的分气碗
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921208732.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN210394514U
授权日 ：
2020-04-24
发明人 ：
刘汝强王殿春孙蕾赵旭荣吴思华
申请人 ：
山东国晶新材料有限公司
申请人地址 ：
山东省德州市禹城市南环东路88号
代理机构 ：
济南金迪知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵龙群
优先权 ：
CN201921208732.4
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-04-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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