一种电沉积-自沉积制备α放射源实验装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种电沉积‑自沉积制备α放射源实验装置,其特点是该实验装置由设置在不锈钢底座上的特氟龙外筒和特氟龙内筒组成设有夹套的沉积槽,所述特氟龙内筒内设有筛板;所述特氟龙外筒上设有进、出水管;所述进、出水管与特氟龙外筒和特氟龙内筒之间的夹套连通。本实用新型与现有技术相比具有电沉积与自沉积集于同一装置,通过改变电沉积溶液中的电解质类型和电沉积电压,实现多种α放射性核素制源,提高测量效率,电沉积制备的Ra、Th等α源,峰形尖锐,能量分辨率合适,回收率较高,装置结构简单,使用方便,尤其适用于化学实验室的配备。

基本信息
专利标题 :
一种电沉积-自沉积制备α放射源实验装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921209297.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-30
授权号 :
CN210506552U
授权日 :
2020-05-12
发明人 :
杜金洲钟强强毕倩倩
申请人 :
华东师范大学
申请人地址 :
上海市闵行区东川路500号
代理机构 :
上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
徐筱梅
优先权 :
CN201921209297.7
主分类号 :
C25D3/54
IPC分类号 :
C25D3/54  C25D17/00  C23C18/16  C23C18/52  G01T1/36  G01T7/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D3/00
电镀;其所用的镀液
C25D3/02
溶液
C25D3/54
不包含在C25D3/04至C25D3/50各组中之金属的
法律状态
2020-05-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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