离子膜烧碱一次精制盐水除硅铝深度精制的装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种离子膜烧碱一次精制盐水除硅铝深度精制的装置，包括从上游往下游依次连接的中和反应池(1)、沉淀池(2)、超滤单元(3)和泥水分离器(4)。与现有技术相比，本实用新型不改变现有一次盐水精制工艺，不影响现有的生产，仅在现有的一次盐水精制工序的最后增加深度精制单元，技改容易实施，且加入的精制剂量少且不会在精制盐水中残留，同时又可以可将硅铝杂质同时去除，操作的宽容度大。
基本信息
专利标题 ：
离子膜烧碱一次精制盐水除硅铝深度精制的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921215660.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN211419589U
授权日 ：
2020-09-04
发明人 ：
程雄
申请人 ：
南京纳亿工程技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市溧水区永阳镇水保路18号1幢
代理机构 ：
上海科盛知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋亮珠
优先权 ：
CN201921215660.6
主分类号 ：
C01D3/06
IPC分类号 ：
C01D3/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01D
碱金属，即锂、钠、钾、铷、铯或钫的化合物
C01D3/00
钠、钾或一般碱金属的卤化物
C01D3/04
氯化物
C01D3/06
用加工盐水、海水或废碱液制备
法律状态
2020-09-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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