一种窑炉排胶室密封清理结构
授权
摘要
本实用新型属于窑炉及热处理设备技术领域，尤其涉及一种窑炉排胶室密封清理结构。清理结构包括设置于窑炉底部两侧的支撑体以及设于支撑体以及窑炉内壁上的下料通道；支撑体为条状且沿窑炉底部两侧边角延伸，支撑体断面为T形，支撑体的横臂靠近窑炉中间的一侧设置有限位斜面，横臂的另一侧抵在窑炉内壁上；抵在窑炉内壁的一侧上设置有下料孔；下料通道包括埋设于窑炉下方的出料管路，以及连接出料管路和下料孔的收集通道；排胶出料管路通过密封阀与外部水泵连接。本实用新型整体结构简单，施工方便，通过简单地炉体机构实现了窑炉内部杂质的有效清理，避免料车转运过程中将杂质撒落在窑炉内部难以清除的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种窑炉排胶室密封清理结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921233504.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-31
授权号 ：
CN211012524U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
谭金山
申请人 ：
黄冈市华泰窑炉工业有限公司
申请人地址 ：
湖北省黄冈市西湖二路26号
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨本官
优先权 ：
CN201921233504.2
主分类号 ：
F27D25/00
IPC分类号 ：
F27D25/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D25/00
清除结痂的装置
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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