一种可调节截齿固定架尺寸的离子镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了一种可调节截齿固定架尺寸的离子镀膜机，所述真空腔体的一侧外表面固定连接有电子束蒸发系统，所述真空腔体的另一侧外表面固定连接有电机系统，所述真空腔体的下端外表面固定连接有底座，所述真空腔体的前端外表面设置有全自动控制系统，所述电子束蒸发系统的外壁固定连接有射频辐射防护机构。本实用新型所述的一种可调节截齿固定架尺寸的离子镀膜机，设有射频辐射防护机构与移动式产品放置机构，能够在一定程度上屏蔽辐射源，防止射频辐射给工作人员带来的伤害，提高工作效率，还可以方便镀膜成品的放置，适应更多的镀膜物件，保护了镀膜成品不受伤害，带来更好的使用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种可调节截齿固定架尺寸的离子镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921265526.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-07
授权号 ：
CN210287499U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
刘林兴
申请人 ：
苏盛纳米涂层科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇230省道藏书888号第七号标准厂房西
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921265526.7
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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