一种窑炉控压封闭结构
授权
摘要
本实用新型属于窑炉生产控制设备或结构技术领域，尤其涉及一种窑炉控压封闭结构。包括设于窑炉外壁的封闭门，设于封闭门上的多个控压组件；封闭门为中空壳体结构，封闭门的中空腔体由多个隔条分割成多个依次相邻的控压腔，以及设于安装座内部的上斜体、下斜体、调节螺栓、活塞体；安装座中间设置有安装腔，下斜体上端设有斜面，上斜体下端相应设有斜面以形成可滑动的活动楔结构，调节螺栓设于安装座上的的螺孔中，通过旋转螺栓以及弹簧的压缩伸展来调节上斜体的水平位置。本实用新型结构简单，成本低廉，通过设置多级缓冲装置，实现不同压力状态下逐级开放释压通道，抑制压力突变，为炉压控制提供反应时间，防止结构和产品破坏的结构。
基本信息
专利标题 ：
一种窑炉控压封闭结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921274725.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-07
授权号 ：
CN210602850U
授权日 ：
2020-05-22
发明人 ：
谭金山
申请人 ：
黄冈市华泰窑炉工业有限公司
申请人地址 ：
湖北省黄冈市西湖二路26号
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨本官
优先权 ：
CN201921274725.4
主分类号 ：
F27D19/00
IPC分类号 ：
F27D19/00 F27D1/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D19/00
控制装置的配置
法律状态
2020-05-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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