半导体材料研磨废水污泥处理系统
授权
摘要
本实用新型涉及半导体材料研磨废水污泥处理系统，包括污泥废水池、压滤机、位于压滤机正下方的清水槽、清水池，污泥废水池的池底处设置有排污孔，污泥废水池和压滤机之间设置有第一阀门、水泵、单向阀、三通调节阀，三通调节阀包括输入接口、第一输出接口、第二输出接口，清水槽与清水池之间设置有第二连管，清水槽的槽底设置有第一排水孔。采用所述半导体材料研磨废水污泥处理系统来处理半导体零部件加工中的污泥废水，污泥压滤时间大幅度缩短，处理效率高，处理后的污泥含水量大幅下降，处理后的污泥成干饼状。
基本信息
专利标题 ：
半导体材料研磨废水污泥处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921275091.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-07
授权号 ：
CN210506015U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
李玉飞
申请人 ：
北京亦盛精密半导体有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号8幢厂房
代理机构 ：
北京东方芊悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈益奇
优先权 ：
CN201921275091.4
主分类号 ：
C02F11/122
IPC分类号 ：
C02F11/122
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F11/122
•••使用压滤机
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
