本实用新型公开了一种高稳定性回转窑支架，解决了回转窑工作后对支架损耗较大和支架稳定性差的问题，其技术方案要点是：所述固定座位于底座顶部，所述的托辊位于固定座顶部两侧，所述的托辊两侧转轴外设置有轴拖，所述托辊两端转轴设置于轴承内，所述的轴承底部设置有缓冲垫，所述缓冲垫截面为半圆形，所述的轴拖底部设置有底垫，所述的固定座底部设置有轴向的凹槽，所述的底座上设置有与凹槽相配合的凸台，所述的凹槽内设置有缓冲罩，所述的固定座上托辊底部设置有开槽，所述开槽两侧设置有辅助辊，所述辅助辊表面与托辊表面相接处。达到了增加回转窑稳定性的目的。