沉淀装置及絮凝沉淀预处理设备

授权

摘要

本实用新型提供了一种沉淀装置及絮凝沉淀预处理设备，涉及原水预处理的技术领域，沉淀装置包括沉淀主体、沉淀池和集水槽；通过集水槽的底部开设有通孔，当水面升至集水槽底部时，通孔可以使得水直接进入至集水槽内，由于集水槽内部和沉淀主体内的水面通过通孔可以实现水流的流动，有效的减小浮力对集水槽的影响；沿着集水槽延伸的端部通过紧固件与沉淀主体的侧壁连接，集水槽和沉淀主体之间的紧固力与水面的漂浮力呈角度布置，所受浮力影响降低，缓解了现有技术中存在的集水槽脱落漂浮于水面现象，防漂浮难度较大，安装质量难以保证的技术问题；保证了安装质量及长期稳定运行，提高了安装效率。

基本信息

专利标题：

沉淀装置及絮凝沉淀预处理设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921292609.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-09

授权号：

CN210521865U

授权日：

2020-05-15

发明人：

颜飞孙勇陆祖安李浩

申请人：

中国电建集团核电工程有限公司

申请人地址：

山东省济南市历城区工业北路297号

代理机构：

北京超成律师事务所

代理人：

陈治位

优先权：

CN201921292609.5

主分类号：

B01D21/02

IPC分类号：

B01D21/02 B01D21/08 C02F1/52