新型顺酐溶剂系统清理的工艺装置
授权
摘要

本实用新型属于顺酐工艺装置领域,具体涉及一种新型顺酐溶剂系统清理的工艺装置,包括吸收塔、汽提塔、解析塔、溶剂回收塔和解析排气吸收塔,所述解析塔塔底通过管线与重沸器入口连接,所述重沸器出口通过管线与解析塔连接,所述溶剂回收罐通过管线分别与解析排气吸收塔和吸收塔连接,在所述解析排气吸收塔塔顶连接有真空泵,在所述真空泵的作用下可使整个系统在负压下运行,所述解析排气吸收塔塔底通过管线与所述汽提塔连接。本实用新型通过建立系统循环水洗的操作,能够缩短顺酐溶剂系统的清理时间,同时保障了系统的清理效果,而且节约了人工成本,避免了安全隐患。

基本信息
专利标题 :
新型顺酐溶剂系统清理的工艺装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921296485.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-08
授权号 :
CN210367496U
授权日 :
2020-04-21
发明人 :
张彬
申请人 :
淄博海益精细化工有限公司
申请人地址 :
山东省淄博市桓台县果里镇政府驻地
代理机构 :
青岛发思特专利商标代理有限公司
代理人 :
马俊荣
优先权 :
CN201921296485.8
主分类号 :
C07D307/60
IPC分类号 :
C07D307/60  C07C67/48  C07C67/54  C07C69/82  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D307/00
杂环化合物,含五元环,含有1个氧原子作为仅有的杂环原子
C07D307/02
不和其他环稠合
C07D307/34
环原子间或环原子与非环原子间有两个或3个双键
C07D307/56
有杂原子,或有3个键连杂原子,其中最多有1个键连卤原子的碳原子,例如酯基或腈基,直接连在环碳原子上
C07D307/60
两个氧原子,例如丁二酸酐
法律状态
2020-04-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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