掩模板组件
授权
摘要
本公开的实施例提供了一种掩模板组件，包括：网状掩模板；框架，所述框架与所述网状掩模板的四周相连接以支撑所述网状掩模板；以及支撑条，所述支撑条具有第一端和第二端，所述第一端固定于所述框架的一个边部，所述第二端固定于所述框架的另一边部，所述支撑条与所述框架一起支撑所述网状掩模板。该掩模板组件通过设置支撑条可减小框架的变形，提高使用该掩模板组件进行工艺制作的精度。
基本信息
专利标题 ：
掩模板组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921302981.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-12
授权号 ：
CN210193986U
授权日 ：
2020-03-27
发明人 ：
徐倩吴建鹏罗昶嵇凤丽
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN201921302981.X
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2020-03-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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