一种超薄壁厚二维准直器
授权
摘要
本实用新型公开了一种超薄壁厚的二维准直器：包括：保持架、X向屏蔽片，Y向屏蔽片、安装板、安装孔，所述保持架内交叉设有若干X向屏蔽片和Y向屏蔽片，所述保持架的两侧连接有安装板，所述安装板上设有安装孔，所述X向屏蔽片壁厚为30‑100μm，所述Y向屏蔽片的壁厚为30‑100μm。本实用新型具有以下有益效果：（1）打印完的二维准直器具有壁厚为50‑80um，和传统的二维准直器相比，不仅可以有效隔离各像元之间信号的干扰，更比传统的二维准直器具有更高的X光通量，提高有效X光剂量的利用率，提高CT整机的性能。
基本信息
专利标题 ：
一种超薄壁厚二维准直器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921308988.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-13
授权号 ：
CN210865654U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
吴召平
申请人 ：
吴召平
申请人地址 ：
上海市青浦区徐泾镇联民路1881号10幢5层A区534室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921308988.2
主分类号 ：
G21K1/02
IPC分类号 ：
G21K1/02 C23C24/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
G21K1/02
使用光阑、准直器
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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