一种一体无缝槽
授权
摘要
本实用新型涉及化学仪器领域，具体是一种一体无缝槽，所述该无缝槽包括设置有槽底的槽体；其中，所述槽体为无缝一体成型状，进而具有不漏药液、不爆裂和抗腐蚀的特性；以及，所述槽底设置为倾斜状，具有了自动排液的效果，进而可以排液完全。槽体为无缝一体成型实现了在不漏药液、不爆裂和抗腐蚀的基础上，缩短了生产周期，避免拼装浪费时间，而述槽底设置为倾斜状，具有了自动排液的效果，可以排液完全。
基本信息
专利标题 ：
一种一体无缝槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921316962.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-14
授权号 ：
CN211311646U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
戚健民
申请人 ：
戚健民
申请人地址 ：
广东省江门市开平市马冈镇高园上村2巷2号
代理机构 ：
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 ：
邓凌云
优先权 ：
CN201921316962.2
主分类号 ：
C25D17/02
IPC分类号 ：
C25D17/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
C25D17/02
镀槽；镀槽的安装
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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