一种具备散热机构的分布式基站
授权
摘要
本实用新型属于基站设备领域，尤其是一种具备散热机构的分布式基站，针对现有的分布式基站多数采用风机固定安装的方式对处理设备进行散热，吹风覆盖的面积小，基站和外部空气的对流速度慢，散热效果低的问题，现提出如下方案，其包括壳体，所述壳体上设有腔室，所述腔室的底部内壁上固定安装有处理设备，所述腔室的底部内壁上滑动安装有对称设置的两个安装块，所述处理设备位于两个安装块之间，两个安装块相互靠近的一侧均固定安装有风机，且风机在两个安装块上呈中心点对称设置，本实用新型加速腔室和外界空气的对流速度，提升对处理设备的散热效果，处理设备不会因温度过高出现卡顿的现象。
基本信息
专利标题 ：
一种具备散热机构的分布式基站
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921322972.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-15
授权号 ：
CN209994499U
授权日 ：
2020-01-24
发明人 ：
金良
申请人 ：
航天神禾科技（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市石景山区八大处路49号院1号楼8层801室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921322972.7
主分类号 ：
H04Q1/02
IPC分类号 ：
H04Q1/02 H04Q1/04 H04W88/08 H05K7/20
法律状态
2020-01-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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