镀膜玻璃保护底板
授权
摘要
本实用新型属于玻璃片生产工具技术领域，尤其涉及一种镀膜玻璃保护底板，包括板体，板体上设有若干沿纵向间隔设置的横槽和若干沿横向间隔设置的纵槽，各横槽和各纵槽纵横交错的位置形成若干下凹的槽口，在板体的每四个相邻且呈正方形布置的槽口之间的区域形成凸出部，各凸出部的顶面共同形成供玻璃片放置的支撑面。这样靶材在磁控溅射的过程中，多余的靶材就会进入各个分散的槽口内，那么即使靶材在受热膨胀后，也是在各自的独立的槽口内膨胀，从而大大地减小了靶材成块的大小，使得在取下玻璃片时，靶材极易在板体上清除，使用效果好。
基本信息
专利标题 ：
镀膜玻璃保护底板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921328606.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-15
授权号 ：
CN210826332U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
董清世郜国顺李国华王小成
申请人 ：
信义节能玻璃（芜湖）有限公司
申请人地址 ：
安徽省芜湖市经济技术开发区信义路2号信义玻璃工业园
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡俐娜
优先权 ：
CN201921328606.2
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C03C17/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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