一种应用于液体贮槽类设备的液位控制结构
授权
摘要
本实用新型提供一种应用于液体贮槽类设备的液位控制结构,其包括:贮槽罐体、溢流挡板、内侧挡板与外侧挡板;贮槽罐体的顶部设有呼排管口和压力调节管口、侧壁设有料液出口,外侧挡板相对靠近料液出口设置;内侧挡板与外侧挡板将贮槽罐体内部分隔成三个腔体,分别为溢流腔体及位于溢流腔体两侧的贮槽腔体和排液腔体,排液腔体与料液出口连通,贮槽腔体与呼排管口连通,溢流腔体与压力调节管口连通,且压力调节管口与压力调节设备连接。本实用新型中,通过压力调节设备调节溢流腔体内的压强就能调节贮槽腔体内的液位高度;而且,所述液位控制结构不含机械结构与电子部件,结构简单,稳定可靠,特别适合在乏燃料后处理领域中处理放射性液体。
基本信息
专利标题 :
一种应用于液体贮槽类设备的液位控制结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921330626.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-16
授权号 :
CN210166665U
授权日 :
2020-03-20
发明人 :
刘泽康刘继连陈勇李磊蔡梦琦姜哲
申请人 :
中国核电工程有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区西三环北路117号
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
罗建民
优先权 :
CN201921330626.3
主分类号 :
G05D9/02
IPC分类号 :
G05D9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D9/00
液位控制,例如控制存储在容器中的材料量
G05D9/02
无辅助动力的
法律状态
2020-03-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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