本实用新型涉及抛丸机技术领域，且公开了一种抛丸机用均匀上料结构，包括壳体，所述壳体的顶部固定安装有进料斗，进料斗的内侧顶部固定安装有第一固定件，第一固定件的顶部固定安装有电机，所述进料斗的内侧底部固定安装有第二固定件，电机的输出轴处固定安装有贯穿且延伸至第一固定件的底部并与第二固定件活动连接的转轴，转轴的外侧且位于第一固定件的下方套接有与进料斗固定连接的固定盘。该抛丸机用均匀上料结构，该结构可达到均匀上料的效果，也可对上料的速度进行改变，从而可控制弹丸的上料速度，避免在大批量进行清理时，弹丸会出现不够用的情况，该结构达到了均匀上料的效果，可更有利于使用者使用。