全断面PC管廊拼缝构造
授权
摘要
本实用新型提供了一种全断面PC管廊拼缝构造，包括：设于第一管廊构件一端的承口，所述承口上预留有具有间距的两圈凹槽，两圈凹槽内匹配嵌设有两条止水条，各所述止水条的两端拼接形成闭合止水条；设于第二管廊构件一端的插口，相邻管廊构件之间通过承口、插口承插连接，所述止水条的相对表面分别与所述凹槽、所述插口相接，所述两条止水条之间界定形成封闭腔体，所述第二管廊构件的底板、顶板上分别预埋有与所述封闭腔体连通的注水管及排水管；所述第一管廊构件与所述第二管廊构件通过所述纵向锁紧结构拉结固定。本实用新型能够保证相邻管廊构件之间连接的紧密性，又能够进行闭水试验，及时检查渗漏情况，降低漏水风险。
基本信息
专利标题 ：
全断面PC管廊拼缝构造
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921348778.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-20
授权号 ：
CN210712941U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
张宇卜晓杰宋明飞高永国延东旭谢飞杨绪广杨保华梁磊
申请人 ：
中国建筑第八工程局有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区世纪大道1568号27层
代理机构 ：
上海唯源专利代理有限公司
代理人 ：
宋小光
优先权 ：
CN201921348778.6
主分类号 ：
E02D29/045
IPC分类号 ：
E02D29/045 E02D29/16 E02D31/02 G01M3/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物；挡土墙
E02D29/045
地下结构物，例如，建于露天的或通过破坏定位线的地基表面的方法修建的隧道或廊道；它们的修建方法
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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