一种C-透镜用镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种C‑透镜用镀膜装置，包括镀膜箱体，镀膜箱体的底部左右两侧对称设置有支撑脚座，镀膜箱体的顶部设置有密封盖，密封盖的顶部设置有把手，镀膜箱体的底部通过轴承转动连接有转轴，转轴的顶部设置有电动伸缩杆，电动伸缩杆的顶部设置有第一蒸发器，转轴的顶部外侧壁固定设置有镀膜底座，镀膜底座的顶部内腔放置有透镜置放装置，透镜置放装置的底部左右两侧设置有安装块，安装块安装于镀膜底座的内腔顶部，镀膜箱体的内腔右侧壁开设有滑槽，滑槽的内腔滑动设置有镀膜装置，本实用新型提供了一种操作简便、镀膜效率高的镀膜装置。
基本信息
专利标题 ：
一种C-透镜用镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921361832.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-21
授权号 ：
CN210420131U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
林康生
申请人 ：
福州新三捷光电技术有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市马尾区兴业路170号1#楼二层(自贸试验区内)
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921361832.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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