一种基坑电梯井防渗水结构
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摘要
本实用新型涉及一种基坑电梯井防渗水结构，包括基坑，基坑内设置坑体，坑体内设有集水坑，坑体于渗水地层处开设水平凹槽，水平凹槽内埋设花管，水平凹槽向下延伸形成连通集水坑的竖向凹槽，竖向凹槽内设置一端连接花管，另一端连通集水坑的输水管，水平凹槽和竖向凹槽内填充将渗水地层密封的水泥砂浆；集水坑内设置水泵，水泵连接嵌入坑体内壁的排水管，排水管延伸至基坑的排水沟内；集水坑内设置透水性填充料，坑体底部设置混凝土垫层，坑体底部以及周壁上设置防水层，防水层上设置保护层。通过在坑体内暗埋花管和排水管，能够在排出渗水的同时不影响混凝土垫层和防水层的施工，具有节约施工周期、提高混凝土垫层和防水层的施工质量的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种基坑电梯井防渗水结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921377996.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-22
授权号 ：
CN210946854U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
王华林周少华陈军李庆刘卫刘敬王想红纪银凤万士锦张爱国刘彦彬黄军锋
申请人 ：
北京东地岩土工程有限公司
申请人地址 ：
北京市平谷区山东庄镇府前路9号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921377996.2
主分类号 ：
E02D19/08
IPC分类号 ：
E02D19/08 E02D17/02 E02D31/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D19/00
保持地下基础地段或其他面积的干燥
E02D19/06
地下水的节制
E02D19/08
通过使用在地下水位以下建的明渠
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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