一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构
授权
摘要
本实用新型属于基坑支护技术领域，尤其为一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构。其中，所述地下室外墙体贴合设置在所述地下连续墙上；所述外墙暗梁固定设置在所述地下室外墙体上；所述底层板固定设置在所述地下室外墙体的底部；所述楼层板固定设置在所述地下室外墙体上且位于所述底层板的上方。本实用新型通过地下室外墙体与地下连续墙连为一体形成的复合墙，有效阻止了基坑支护结构和周边环境持续变形，解决了现有基坑支护结构会造成周围环境持续变形过大的缺陷，并利用地下室底层板、楼层板以及外墙暗梁混凝土施工时产生的向基坑外侧膨胀力形成对地下连续墙的支撑防护压力，达到局部减少周围环境变形的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921382751.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-23
授权号 ：
CN210917384U
授权日 ：
2020-07-03
发明人 ：
金雪峰罗慧瑜
申请人 ：
广州市天作建筑规划设计有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市天河区华夏路28号606-612室
代理机构 ：
东莞市浩宇专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
石艳丽
优先权 ：
CN201921382751.9
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2020-07-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
