掩模版保护膜的撬膜装置
授权
摘要
本实用新型提供掩模版保护膜的撬膜装置，包括：掩模温控模块，该模块设置于下平台内；膜框冷却模块，位于上盖板上且对应膜框位置，用于对模框降温；掩模版固定装置，分布在掩模版外周圈，用于固定掩模版；连接件，用于连接上盖板与膜框，上盖板开启时，带动膜框、保护膜从掩模版上脱离，本专利申请利用掩模版加热模块对掩模版进行加热，在通过高温将掩模版上的胶融化的同时，并利用液体冷却给于膜框低温特性，增强胶对膜框的粘性，从而使去膜过程中，既降低了胶对掩模铬层带来伤害的风险，也减少了胶粘附在掩模版上的几率。
基本信息
专利标题 ：
掩模版保护膜的撬膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921385839.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-23
授权号 ：
CN210864315U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
张闯严江伟
申请人 ：
无锡迪思微电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-6
代理机构 ：
无锡市朗高知识产权代理有限公司
代理人 ：
贾传美
优先权 ：
CN201921385839.6
主分类号 ：
G03F1/62
IPC分类号 ：
G03F1/62 G03F1/64
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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