一种立体成像光学薄膜
授权
摘要
本实用新型提供一种立体成像光学薄膜，其包括聚焦层和图文层，聚焦层包括聚焦单元，聚焦单元包括多个微结构，微结构呈周期分布，微结构设定一个第一定点；图文层包括图文单元，图文单元包括多个微图文，微图文呈周期分布，至少部分或全部微图文显示为预设图文的部分图案，且每个微图文的预设图文设定一个第二定点。其中，微图文与微结构对应设置，相邻两个微结构第一定点之间的距离为变化设置和/或相邻两个微图文的预设图文的第二顶点之间的距离为变化设置，使得图文层经过聚焦层形成放大倍率不同的立体放大图像，具有较好的装饰效果同时难以仿制，使得应用于防伪领域效果更好。
基本信息
专利标题 ：
一种立体成像光学薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921395587.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-26
授权号 ：
CN210270394U
授权日 ：
2020-04-07
发明人 ：
郑伟伟申溯孙超
申请人 ：
昇印光电（昆山）股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市玉山镇元丰路33号2号房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921395587.5
主分类号 ：
G02B30/29
IPC分类号 ：
G02B30/29 G02B3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B30/29
以透镜阵列的几何形状为特征，例如 倾斜阵列，不规则阵列或形状或大小不同的阵列
法律状态
2020-04-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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