自动喷淋清洗装置
授权
摘要
本实用新型涉及半导体晶片清洗技术领域,涉及一种自动喷淋清洗装置,包括清洗台,所述清洗台顶面安装支撑固定板,支撑固定板顶面沿长度方向布置滑动导轨,连接板滑动配合连接于所述滑动导轨上;清洗台顶面还安装有气缸,气缸的活塞杆端通过气缸活塞杆固定块与连接板相连接;所述连接板上还设置有喷淋组件,清洗台还设置有清洗槽。本实用新型采用自动化设备进行晶片清洗,完全取代人工,不仅操作简单,还可以将晶片固定架直接放入清洗台中按批次清洗,工作效率高、节省成本;通过在直管周侧开设若干喷水口,在喷水口安装喷淋头进行喷淋清洗,能够对晶片进行均匀清洗,使晶片上残留物得到彻底清洁。
基本信息
专利标题 :
自动喷淋清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921414133.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-27
授权号 :
CN210876451U
授权日 :
2020-06-30
发明人 :
张文青
申请人 :
山东欧晶莱光学科技有限公司
申请人地址 :
山东省泰安市宁阳县八仙桥街道富圣大街西首、酒文化园对过
代理机构 :
无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
殷红梅
优先权 :
CN201921414133.8
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 B08B13/00 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2020-06-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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