半导体器件加工车间用废气净化设备

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摘要

本实用新型涉及废气处理附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体器件加工车间用废气净化设备，其可以对废气进行酸碱中和，避免对废气中的酸碱成分对UV光解装置造成腐蚀，从而保证设备的使用寿命，提高实用性；包括箱体，箱体的内部设置有工作腔，并在工作腔内设置有UV光解装置和活性炭吸附装置，箱体的右端设置有出气管，并在出气管处设置有出气风机；还包括喷淋塔、溶液配制箱、水箱、第一喷淋泵、第二喷淋泵、第一连通风管、第二连通风管、隔板、中和水槽、第一喷淋装置和第二喷淋装置，喷淋塔的内部设置有放置腔，隔板将放置腔隔成上腔室和下腔室，喷淋塔的左端设置有与下腔室相通的进气管，并在进气管处设置有进气风机。

基本信息

专利标题：

半导体器件加工车间用废气净化设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921455999.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-02

授权号：

CN210544343U

授权日：

2020-05-19

发明人：

师圆生李志荣任东发曾福厚吴柒兵杨林鲜易友元

申请人：

山东保蓝环保工程有限公司

申请人地址：

山东省淄博市高新区王埠村英雄路3号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921455999.3

主分类号：

B01D53/78

IPC分类号：

B01D53/78