一种微导线的电镀连接装置
专利权的终止
摘要

一种微导线的电镀连接装置,包括芯片定位装置、微导线定位装置、沉积装置和溶液循环装置。其中,芯片固定在芯片定位装置上,微导线通过微导线定位装置的定位元件固定在芯片的导电薄膜上方;芯片定位装置和微导线定位装置设置在定位平台上,定位平台设置在电镀槽上,电镀槽设置在水平移动装置上;沉积装置设置在垂直升降装置上,垂直升降装置通过工作台支撑架设置在水平工作台上。水平移动装置在X和Y向的移动可确定定位在芯片上的微导线和沉积装置上连接压头的相对位置,垂直升降装置的上下移动可带动沉积装置上的连接压头实现对定位在芯片上微导线的松开和压紧。本装置操作简单,定位准确,适用于极微小芯片上导电薄膜和任意材料微导线的连接。

基本信息
专利标题 :
一种微导线的电镀连接装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921502956.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-11
授权号 :
CN210506578U
授权日 :
2020-05-12
发明人 :
李永亮秦歌李朋倡周红梅陈旭闫亮明平美张新民
申请人 :
河南理工大学
申请人地址 :
河南省焦作市高新区世纪大道2001号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921502956.6
主分类号 :
C25D21/06
IPC分类号 :
C25D21/06  C25D17/06  C25D17/02  C25D7/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/06
过滤
法律状态
2021-08-20 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C25D 21/06
申请日 : 20190911
授权公告日 : 20200512
终止日期 : 20200911
2020-05-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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