一种光学元件调节装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种光学元件调节装置,包括底座、安装架、支杆和框架;所述安装架位于底座上侧,所述支杆位于安装架上侧两端,所述支杆底端焊接在安装架上侧,所述框架位于支杆上侧,所述框架两侧设置有滑套,所述滑套焊接在框架两侧,所述滑套套在支杆上侧,所述框架中间设置有透光镜,所述支杆中间位置设置有横架,所述横架焊接在支杆上侧,所述框架底端设置有丝杆,所述丝杆上端套有轴承,所述轴承焊接在框架底端,所述丝杆中间和底端位置均套有丝杆螺母,所述丝杆螺母焊接在横架或安装架上侧。本实用新型使用时,工作人员通过旋转丝杆即可带动框架向上移动,框架在移动时将会向上或者向下带动透光镜进行移动,便于对透光镜进行调节。

基本信息
专利标题 :
一种光学元件调节装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921511207.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-11
授权号 :
CN210428088U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
许程富
申请人 :
都江堰正儒光学有限公司
申请人地址 :
四川省成都市都江堰市玉堂镇永康村
代理机构 :
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
冯华
优先权 :
CN201921511207.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G02B7/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-08-20 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190911
授权公告日 : 20200428
终止日期 : 20200911
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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