一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及玻璃生产设备技术领域，尤其是一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置，包括壳体，壳体内顶面设置有第一加热器，壳体内底面设置有蒸发装置，壳体侧边对称设有第一滑轨，第一滑轨上设有第一滑块，第一滑块上设有通过回转台连接的支撑杆，支撑杆另一端设有带有第二滑轨的安装板，第二滑轨上间隔设置有第二滑块，第二滑块上设置有连接板，连接板皆间隔设置有通过固定杆连接的夹块。本实用新型通过和第二滑块连接的夹块固定基片，并且在回转台的作用下使得基片能够在壳体内旋转翻面，镀膜更加均匀，提高生产效率，垫片能够防止夹块夹持基片时损伤基片表面，第一滑块和第一滑轨的配合便于基片在壳体内调整位置后旋转。
基本信息
专利标题 ：
一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921525053.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-16
授权号 ：
CN210856319U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
丁桂兰仇亚平
申请人 ：
常州金世纪玻璃科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区奔牛镇五兴村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921525053.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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