非侵入式测量过程流体导管内的过程流体压力的系统
授权
摘要
提供了一种非侵入式测量过程流体导管内的过程流体压力的系统。该系统包括测量支架，测量支架被配置为耦接到过程流体导管的外表面。测量支架基于响应于过程流体导管中的过程流体压力的过程流体导管的变形来产生可变间隙。间隙测量系统耦接到测量支架，并基于对可变间隙的测量来提供电信号。控制器耦接到间隙测量系统，且被配置为基于电信号和与过程流体导管有关的信息来计算和提供过程流体压力。
基本信息
专利标题 ：
非侵入式测量过程流体导管内的过程流体压力的系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921556637.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-18
授权号 ：
CN211373907U
授权日 ：
2020-08-28
发明人 ：
查尔斯·R·威勒克斯
申请人 ：
罗斯蒙特公司
申请人地址 ：
美国明尼苏达州
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
潘剑颖
优先权 ：
CN201921556637.3
主分类号 ：
G01L11/00
IPC分类号 ：
G01L11/00 G01L9/12 G01B7/14 G01B21/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L11/00
用不包括在G01L7/00或G01L9/00组中的方法的流体或流动固体材料的稳定或准稳定压力的计量
法律状态
2020-08-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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