一种两步法石墨压延装置
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摘要
本实用新型属于材料制备技术领域，具体涉及两步法石墨压延装置。本实用新型包括主压延结构，主压延结构包括石墨放卷轴、盖膜放卷轴、主压延上辊、盖膜收卷轴、第一离型膜放卷轴和主压延下辊，还包括增设的二次压延贴合机构，二次贴合压延结构包括二次贴合压延上辊、石墨收卷轴、第一离型膜收卷、二次贴合压延下辊、第二离型膜放卷轴及第二伺服电机，二次贴合压延上辊安装在主压延结构的出料端，主压延结构安装在安装架上，二次贴合压延上辊与二次贴合压延下辊的间隙通过过辊及第二伺服电机控制，第二离型膜放卷轴和第一离型膜收卷固定安装在收料端。本实用新型解决了石墨易残留在离型膜上、压延不充分、石墨厚度不达标的问题，结构简单，使用方便。
基本信息
专利标题 ：
一种两步法石墨压延装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921562606.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-19
授权号 ：
CN210764343U
授权日 ：
2020-06-16
发明人 ：
陈曲唐文军杨朝晖吴晓宁朱光福
申请人 ：
北京中石伟业科技无锡有限公司;北京中石伟业科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区净慧东道199
代理机构 ：
无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹祖良
优先权 ：
CN201921562606.9
主分类号 ：
C01B32/205
IPC分类号 ：
C01B32/205
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B32/00
碳；其化合物
C01B32/20
石墨
C01B32/205
制备
法律状态
2020-06-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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