能及时排屑的微球涂层装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种能及时排屑的微球涂层装置，所述真空室内设置有磁控靶枪；所述副真空室设置在真空室的底部，所述副真空室上设置有真空管，所述真空管和副真空室连通；所述环形体呈漏斗状，且位于真空室内，所述排屑轴设置在环形体的底部，且中空，所述排屑轴连通真空室和副真空室，所述环形体驱动源设置在副真空室外部，且其自由端与排屑轴连接；所述内转台驱动源设置在副真空室的底部，所述转轴设置在内转台驱动源的自由端，所述内转台设置在转轴的顶部，所述内转台的外径小于环形体在内转台高度处的外径，其之间形成宽度小于微球的外径的分离口。其能够分离、收集尘屑，净化度和涂覆效率高，结构简单，成本低。
基本信息
专利标题 ：
能及时排屑的微球涂层装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921584620.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-23
授权号 ：
CN210886204U
授权日 ：
2020-06-30
发明人 ：
周新光
申请人 ：
苏州市亚摩斯纺织涂层整理有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区盛泽镇圣塘村
代理机构 ：
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈娟
优先权 ：
CN201921584620.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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