气闸室平衡系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种气闸室平衡系统，包括：逆止阀组件，用于控制连接气闸室与大气的平衡管道内气体向远离气闸室的方向单向流动；压力监测系统，用于监测气闸室内压力值的变化是否异常。通过逆止阀组件使得平衡管道内的气体均向远离气闸室的方向单向流动，因此当气闸室内压力检测失真导致平衡阀打开后，如果气闸室内的腔体压力值实际上小于外界压力值，通过平衡管道灌入气闸室的气流会被逆止阀组件阻断，从而减少气体回灌导致的微尘进入气闸室的情况，通过检测打开平衡阀后的气闸室的腔体压力值，能够及时发现压力检测失真从而进行维修调整，使得在新一轮工作中压力正常检测，通过上述技术方案，能够有效减少压力回灌现象，降低产品报废几率。
基本信息
专利标题 ：
气闸室平衡系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921594961.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-24
授权号 ：
CN210379003U
授权日 ：
2020-04-21
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
虞凌霄
优先权 ：
CN201921594961.4
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2020-04-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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