用于TEM切片结构分析的放置装置
授权
摘要

本实用新型公开了用于TEM切片结构分析的放置装置,包括放置台,所述放置台上开设有观察槽,所述放置台底部设置有支撑块,所述支撑块内开设有安装腔,所述安装腔内侧壁开设有贯穿侧壁的贯穿口,所述贯穿口内转动连接有连接杆,所述连接杆一端固定连接有转动块,所述连接杆另一端固定连接有支撑机构,所述支撑块通过连接机构与放置台连接。本实用新型当进行样品失效性分析时,将样品切片放置在碳片,将碳片放置在观察槽内,经TEM观察样品与碳片是否平行,当出现角度偏差时,通过缓慢的转动位于支撑块上的转动块进行上下角度的调节,当调节好角度时,通过转动放置台侧壁实现对位于放置台上的样品转动,实现对样品进行多角度的观察。

基本信息
专利标题 :
用于TEM切片结构分析的放置装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921603827.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-25
授权号 :
CN210665553U
授权日 :
2020-06-02
发明人 :
吕灼菲苏耿贤何永强刘焱王亮
申请人 :
苏州博飞克分析技术服务有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区东长路88号F1幢1F101室
代理机构 :
苏州国卓知识产权代理有限公司
代理人 :
明志会
优先权 :
CN201921603827.6
主分类号 :
G01N23/20025
IPC分类号 :
G01N23/20025  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射,例如,用于测试晶体结构;利用材料辐射的散射,例如测试非晶材料;利用材料辐射的反射
G01N23/20008
分析仪零件结构,例如其特征在于X射线源、检测器或光学系统;其配件;样品制备
G01N23/20025
样品固定架或支架
法律状态
2020-06-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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