本实用新型公开了一种剖层机上桥装置的副桥调节结构，包括上桥以及设于上桥下方的副桥组件，所述副桥组件包括中间位置的中心副桥以及设于中心副桥左右两侧的可调副桥，所述中心副桥通过定位销与上桥定位并通过螺栓锁紧，所述可调副桥靠中心一端通过定位销与上桥定位，所述可调副桥另外一端与上桥之间设有调节高度的高度调节组件。本实用新型采用上述技术方案，中心副桥与上桥采用刚性联接，可调副桥一端用定位销固定另一端则用压缩弹簧支撑，两端调节螺杆可设置其向上移动的最终距离，在使用过程中就可皮革加工工艺要求来调整，来满足不同尺寸规格的皮革剖层要求。