吸附设备

授权

摘要

本实用新型提供了一种吸附设备，吸附设备包括罐体和位于罐体内的固体吸附部，吸附设备还包括第一分布器和第二分布器，第二分布器位于罐体内，第二分布器包括筛板结构，第一分布器位于筛板结构的下方，第一分布器包括进气管，在罐体上开设有进气孔，进气管的至少部分结构经进气孔插入罐体内，进气管的伸入所罐体的部分的端部封闭且该部分上开设有朝向罐体底部的进气缺口，罐体的中心轴线经过进气缺口，进气缺口的面积大于进气管的横截面积。气体通过第一分布器的分布效果，使得气流速度减慢，并使流场进一步均匀并有效抵消和减缓气体沟流，进而提高吸附设备的吸附效率。

基本信息

专利标题：

吸附设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921624234.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-26

授权号：

CN210786765U

授权日：

2020-06-19

发明人：

赵雪源卢洪杰史东军陈敏潘涛郭行

申请人：

北京泷涛环境科技有限公司

申请人地址：

北京市丰台区长辛店镇园博园南路渡业大厦5层517室

代理机构：

北京博讯知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

柳兴坤

优先权：

CN201921624234.8

主分类号：

B01D53/04

IPC分类号：

B01D53/04