一种用于同时测量超构材料光芯片反射、透射和吸收光谱的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于同时测量超构材料光芯片反射、透射和吸收光谱的装置，其特征在于包括：宽谱白光光源、第一光纤准直镜、第二光纤准直镜、液体流通池、双路光开关、多模光纤跳线、光纤光谱仪和电脑。本申请装置通过双路光开关分别来搭建超构材料光芯片的反射光路和透射光路，在仅仅使用单个光源和单个光谱仪的情况下，通过双路光开关交替切换实现超构材料光芯片反射光谱和透射光谱的同时测量，再通过利用连续测量得到一次反射和一次透射结果计算得到吸收光谱。
基本信息
专利标题 ：
一种用于同时测量超构材料光芯片反射、透射和吸收光谱的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921626866.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-27
授权号 ：
CN210665487U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
徐挺梁瑜章
申请人 ：
南京大学
申请人地址 ：
江苏省南京市鼓楼区汉口路22号
代理机构 ：
南京知识律师事务所
代理人 ：
高玲玲
优先权 ：
CN201921626866.8
主分类号 ：
G01N21/31
IPC分类号 ：
G01N21/31 G01N21/3563 G01N21/359 G01N21/59 G01N21/552 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色；光谱性质，即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应，例如原子吸收光谱术
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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