一种太赫兹波探测用热释电芯片的红外吸收膜结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种太赫兹波探测用热释电芯片的红外吸收膜结构,包括吸收层、热释电芯片层和悬空绝热层,吸收层、热释电芯片层和悬空绝热层从上至下顺次相邻层叠设置,热释电芯片层的上表面和悬空绝热层的上表面分别设有引线,且位于热释电芯片层的上表面和悬空绝热层的上表面的两根引线分别与热释电芯片层的上下表面一一对应电连接。本实用新型通过热释电芯片层可以大幅度提高探测器的本征热释电性能和探测能力,通过吸收层可以大幅提高对中红外波段的吸收特性,同时将高吸收率的波段覆盖范围拓展至远红外甚长波波段,为太赫兹波的探测提供了新的可选方案,通过悬空绝热结构,降低了热释电芯片的热扩散和损耗,提高能量利用率和芯片温度变化量。
基本信息
专利标题 :
一种太赫兹波探测用热释电芯片的红外吸收膜结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921642434.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-29
授权号 :
CN211122490U
授权日 :
2020-07-28
发明人 :
李龙
申请人 :
北立传感器技术(武汉)有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东西湖区五环大道31号
代理机构 :
武汉谦源知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王力
优先权 :
CN201921642434.6
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01 G01N21/3581 G01V8/10 G01J5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2020-07-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载