一种超声波清洗陶瓷片的装置
授权
摘要
本实用新型提供一种超声波清洗陶瓷片的装置，其涉及陶瓷片超声波清洗领域，旨在解决一般陶瓷片清洗效率低自动化程度低且生产成本高的问题。包括有提升机构、第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、风干烘干一体槽、滚动输送线、自动上料口、工作台，所述提升机构安装在工作台上，所述第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽以及风干烘干一体槽均安装在工作台上，所述滚动输送线安装在工作台的底部，所述自动上料口位于提升机构的上方，所述工作台安装在地面上。
基本信息
专利标题 ：
一种超声波清洗陶瓷片的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921664003.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-30
授权号 ：
CN211160964U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
田原陈守镇钱涌邓泽
申请人 ：
无锡惠虹电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新区硕放里河20号
代理机构 ：
北京国昊天诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
程爽
优先权 ：
CN201921664003.X
主分类号 ：
B08B3/08
IPC分类号 ：
B08B3/08 B08B3/12 B08B13/00 F26B21/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/08
具有化学作用或溶解作用的液体
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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