一种窑变抛釉陶罐
授权
摘要
本实用新型公开了一种窑变抛釉陶罐，包括陶罐本体，陶罐本体包括陶罐胚体，陶罐胚体的外壁固定设有熔块层，熔块层一侧的顶部固定设有第一印花层，熔块层一侧的中部固定设有第二印花层，熔块层一侧的底部固定设有第三印花层，熔块层的一侧固定设有第一窑变釉层，本实用新型一种窑变抛釉陶罐，本陶罐釉面层包括由碳酸钙制成的第一窑变釉层和由氧化钛制成的第一窑变釉层，陶罐的釉层结构分布合理，使得陶罐烧制温度降低、时间短、能源损耗小，继而降低陶罐制造成本，同时保护环境；本陶罐印花层由第一印花层、第二印花层和第三印花层共同组成，使得陶罐釉面效果不一，可有效提高陶罐的实用性，从而满足大众需求。
基本信息
专利标题 ：
一种窑变抛釉陶罐
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921684221.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-10
授权号 ：
CN211222823U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
陈宇翔
申请人 ：
福建省德化艺鹏陶瓷有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市浔中镇城后工业区
代理机构 ：
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
焦海峰
优先权 ：
CN201921684221.X
主分类号 ：
B44C5/00
IPC分类号 ：
B44C5/00 B44C3/04 B44C3/02 C03C8/02 C04B33/00 C04B33/24 C04B41/89
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B44
装饰艺术
B44C
产生装饰效果的工艺；镶嵌制品；镶木制品；裱糊
B44C5/00
制作特种装饰品的工艺
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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