一种太阳镜片的纳米镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种太阳镜片的纳米镀膜装置，其一方面通过真空抽气装置保持镀膜环境的真空度，避免气体夹杂在膜材与镜片之间而影响膜材与镜片之间的附着力；一方面通过离子源释放高能量的氩离子不断轰击镜片，使镜片表面粗糙，便于后续膜材喷射到镜片时，能增加膜层与基材之间的附着力；另一方面通过电子枪发射电子束细化膜材微粒，增加膜层与基材之间的附着力和膜层表面的耐磨性。总之，本实用新型能够提高太阳镜片镀膜层的附着牢度和表面的耐磨性能。
基本信息
专利标题 ：
一种太阳镜片的纳米镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921689787.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-10
授权号 ：
CN210856321U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
刘斌
申请人 ：
艾普偏光科技（厦门）有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市海沧区后祥南路128号之三第二层、第三层A区及第四层
代理机构 ：
厦门市新华专利商标代理有限公司
代理人 ：
罗恒兰
优先权 ：
CN201921689787.1
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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