一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备

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摘要

本实用新型公开了一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备，属于静电植砂的设备技术领域。本实用新型的一种提高植砂均匀性的静电植砂结构，包括输送带、上极板、下极板；其中，上极板布置于下极板上方，用于产生使砂粒向上运动的电力场；输送带布置于上极板与下极板之间，用于输送砂粒；基材行走路径位于上极板与输送带之间，基材行走路径是植砂时基材行走的路径；还包括筛网，筛网布置于输送带与基材行走路径之间，用于均匀化砂粒，以使得砂粒先上升穿过筛网被均匀化后、再附着于基材上。采用本实用新型进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上，生产的产品质量更佳。

基本信息

专利标题：

一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921714328.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-14

授权号：

CN210876100U

授权日：

2020-06-30

发明人：

雷龙长

申请人：

雷龙长

申请人地址：

四川省绵阳市三台县北坝镇凤凰栖6栋2单元11-1

代理机构：

成都九鼎天元知识产权代理有限公司

代理人：

蒋仕平

优先权：

CN201921714328.4

主分类号：

B05C19/04

IPC分类号：

B05C19/04