无焦点检查装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种无焦点检查装置，包括：结构光源，其依次照射具有一个相位范围的多个结构光；至少一个透镜，其针对所述多个结构光，分别调整与所述相位范围中各个相位对应的光的路径，使得与所述相位范围中的一个相位对应的光到达对象体上一部分区域的各点；图像传感器，其捕获(capture)所述多个结构光分别从所述一部分区域反射而生成的多个反射光；及处理器，其与所述结构光源、所述至少一个透镜及所述图像传感器电气连接；所述处理器可以从所述图像传感器获得关于所述多个反射光各自的光量值，以关于所述多个反射光各自的光量值为基础，导出所述多个反射光的相位值，导出所述对象体表面的角度。
基本信息
专利标题 ：
无焦点检查装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921716024.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-14
授权号 ：
CN211629040U
授权日 ：
2020-10-02
发明人 ：
李撰权全文营许贞洪德和赵银河
申请人 ：
株式会社高迎科技
申请人地址 ：
韩国首尔市
代理机构 ：
北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
郑青松
优先权 ：
CN201921716024.1
主分类号 ：
H01L21/66
IPC分类号 ：
H01L21/66 G01B11/26
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2020-10-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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