改进的电槽结构
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本实用新型是有关于一种改进的电槽结构，其主要是使电槽内部形成有容室，而于电槽底端面向容室内凹设形成有凹槽部；借此，不仅能增加散热液体与电槽接触的面积，进而达到更佳的散热功效，连带可提升该电槽成品的品质，且可供电槽的线材进行隐藏，而在其整体施行使用上更增实用功效特性。
基本信息
专利标题 ：
改进的电槽结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921740185.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-17
授权号 ：
CN210640288U
授权日 ：
2020-05-29
发明人 ：
黄家良
申请人 ：
日立化成能源科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾台北市士林区承德路4段150号11楼
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩嫚嫚
优先权 ：
CN201921740185.4
主分类号 ：
H01M2/10
IPC分类号 ：
H01M2/10 H01M10/613 H01M10/6568
法律状态
2020-11-24 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01M 2/10
变更事项 : 专利权人
变更前 : 日立化成能源科技股份有限公司
变更后 : 希世比能源科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾台北市士林区承德路4段150号11楼
变更后 : 中国台湾台北市士林区承德路4段150号11楼
变更事项 : 专利权人
变更前 : 日立化成能源科技股份有限公司
变更后 : 希世比能源科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾台北市士林区承德路4段150号11楼
变更后 : 中国台湾台北市士林区承德路4段150号11楼
2020-05-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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