N－甲基－2－吡咯烷酮的精制系统
授权
摘要
本实用新型涉及精制N－甲基－2－吡咯烷酮(NMP)的精制系统。从含有NMP和水的混合液中分离NMP进行精制的精制系统具备：具备渗透气化膜(31)的渗透气化装置(30)；将混合液供给至渗透气化装置(30)的浓缩室(32)的泵(21)；对混合液进行加热的热交换器(23)；测定处理温度x[℃]的温度传感器(72)；测定混合液的流量的流量传感器(71)；以及基于由温度传感器(72)测定出的处理温度、由流量传感器(71)测定出的流量和浓缩室(32)的容积来控制泵(21)和热交换器(23)中的至少一者的控制装置(70)。
基本信息
专利标题 ：
N－甲基－2－吡咯烷酮的精制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921743076.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-17
授权号 ：
CN211189771U
授权日 ：
2020-08-07
发明人 ：
寺师亮辅山田响介
申请人 ：
奥加诺株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都江东区新砂1丁目2番8号
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
张黎
优先权 ：
CN201921743076.8
主分类号 ：
B01D61/36
IPC分类号 ：
B01D61/36 C07D207/267
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D61/00
利用半透膜分离的方法，例如渗析，渗透，超滤；其专用设备，辅助设备或辅助操作
B01D61/36
全蒸发；膜蒸馏；液体渗透
法律状态
2020-08-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
