本实用新型涉及激光光源领域，具体涉及一种用于投影机的多灯合光结构，包括多个光源，还包括二次成像单元，所述二次成像单元包括用于调整光束投影的光斑大小的透镜组，该透镜组位于主光轴上，所述光束从合光单元汇聚后，进入透镜组，使光束在透镜组的物方焦平面上形成光斑，且成像于透镜组的像方焦平面，所述光束在透镜组的像方焦平面的投影的大小与后续的积分匀光元件的入光平面的大小相同，不但可以将进入后继模块的光斑大小调节至合适的位置，还将最佳成像的像方焦平面位置调整至合适的位置，从而充分地利用有效光能，提高输出亮度的同时，使光源的位置排列更加自由，使投影机的光源模块在体积方面的损失相应得到减少。