银电解设备中的清洗装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种银电解设备中的清洗装置，包括清洗槽和沉淀槽，其中所述清洗槽放置在安装台上，而沉淀槽则安装在安装台一侧的地面上，所述清洗槽内设置有过滤装置，所述过滤装置包括筛板，所述筛板上安装有滤布，所述筛板下方的所述清洗槽上还安装有出液管，所述出液管与所述清洗槽的内部空腔相连通，且所述出液管远离所述清洗槽的一端连接到沉淀槽。本实用新型具有能够对过滤得到的银粉进行清洗回收的效果。
基本信息
专利标题 ：
银电解设备中的清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921759813.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-18
授权号 ：
CN210657168U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
姜彩根姜备军
申请人 ：
浙江宏达新材料发展有限公司
申请人地址 ：
浙江省绍兴市杭州湾上虞经济技术开发区
代理机构 ：
北京维正专利代理有限公司
代理人 ：
黄兴
优先权 ：
CN201921759813.3
主分类号 ：
C25C5/02
IPC分类号 ：
C25C5/02 C25C7/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25C
电解法生产、回收或精炼金属的工艺；其所用的设备
C25C5/00
金属粉末或多孔金属体的电解生产、回收或精炼
C25C5/02
自溶液
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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