本实用新型公开了一种用于加工可控硅的加热设备，具体涉及可控硅加热装置技术领域，包括安装底座，所述安装底座的表面开设有限位滑槽，所述限位滑槽的内部活动连接有导向滑轮，所述导向滑轮的中心轴固定连接有第一连接支柱和第二连接支柱，所述第一连接支柱和第二连接支柱的底部通过伸缩固定杆连为一体。本实用新型通过设置加热组件，采用新式的可控硅加热方式来进行可控硅的加热加工，通过组合式电磁加热线圈在第一加热板和第二加热板内部组合完整，把可控硅置于其内部进行定点式加热，再利用电磁的穿透性，使得可控硅的加热内外同步均匀受热，从而让可控硅的热熔连接均匀紧密，增加了装置的热效利用率，提高了装置的加热效率。