一种氧化锆基台用基底

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摘要

本实用新型公开了一种氧化锆基台用基底，所述基底从上到下依次包括基台结合部、穿龈部及植体结合部；所述基台结合部从上到下依次为沟槽段及避空段，所述沟槽段表面上设有环形沟槽；所述穿龈部为回转体结构；所述植体结合部从上到下依次为倒锥台段及植体配合段；所述基底设有台阶通孔，且所述台阶通孔的台阶处为倒锥台结构。本实用新型的基底结构简单，加工方便，与牙种植体、中央螺丝、氧化锆基台连接紧固可靠，能有效的解决一体式氧化锆基台容易磨损及崩裂等力学性能不足的问题、金属基台在前牙区容易露出金属色而造成的不美观问题，还可解决粘结后的基台与牙种植体的微动问题及细菌、食物残渣进入牙种植体的问题。

基本信息

专利标题：

一种氧化锆基台用基底

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921773739.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-21

授权号：

CN211534902U

授权日：

2020-09-22

发明人：

李买生张潇张锦阳钟宏达陈贤帅何婧妍

申请人：

佛山市安齿生物科技有限公司

申请人地址：

广东省佛山市南海区桂城街道平洲永安北路1号金谷光电产业社区A座第六层602单元

代理机构：

广州嘉权专利商标事务所有限公司

代理人：

朱继超

优先权：

CN201921773739.0

主分类号：

A61C8/00

IPC分类号：

A61C8/00