带有液位调节功能的水平沉铜缸
授权
摘要
本实用新型公开了一种带有液位调节功能的水平沉铜缸,包括:上液区;下液区,和上液区通过输送管道连通,输送管道上设置有输送泵,输送泵用于将下液区的药液泵送至上液区,上液区和下液区之间还设置有呈排列设置的回流管道;漏液塞子,用于插入至回流管道的入口并堵塞回流管道。本实用新型能够通过加减漏液塞子的数量来调节液位高度,当回流的药液量较大时,可以减少漏液塞子的数量,使得更多的回流管道导通,从而避免上液区的液位过高;当回流的药液量较少时,可以增加漏液塞子的数量,减少回流管道的导通数量,从而避免上液区的液位过低。因此本实用新型能够对上液区的液位进行调节,防止液位过高或过低,大大提高了线路板的质量。
基本信息
专利标题 :
带有液位调节功能的水平沉铜缸
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921792789.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-23
授权号 :
CN211170889U
授权日 :
2020-08-04
发明人 :
方鸿昌郭贡华郭云龙贺小平
申请人 :
鹤山市世安电子科技有限公司
申请人地址 :
广东省江门市鹤山共和镇共和大道南1号之一
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
孙浩
优先权 :
CN201921792789.3
主分类号 :
C23C18/38
IPC分类号 :
C23C18/38
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18/00
通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆;接触镀
C23C18/16
还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18/31
用金属镀覆
C23C18/38
镀铜
法律状态
2020-08-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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