一种荧光靶面
授权
摘要

本实用新型公开了一种荧光靶面,包括支撑底板,所述支撑底板的内部固定安装有荧光结构,且支撑底板上设有射击板,所述射击板的内侧固定安装有连接板,所述连接板的设置有用于缓冲的缓冲结构,且缓冲结构的一端连接于支撑底板上,所述射击板的外表面固定安装有用于记录成绩的环数圈,所述支撑底板的下端固定安装有旋转结构。本实用新型所述的一种荧光靶面,通过增设的荧光结构,可以在白天吸收光线,夜里释放出光来,方便进行夜间模拟训练,采用缓冲结构,可以有效的形成缓冲,降低射击板所受到的冲击力,减小射击板的磨损,延长使用寿命,通过设置的旋转结构,方便对靶面朝向进行调节,提高使用灵活性。

基本信息
专利标题 :
一种荧光靶面
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921793504.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-24
授权号 :
CN210922356U
授权日 :
2020-07-03
发明人 :
沈昕柳泽龙林荣乐王成局陈江填
申请人 :
军鹏特种装备股份公司
申请人地址 :
福建省泉州市晋江市经济开发区(五里园)
代理机构 :
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汤东凤
优先权 :
CN201921793504.8
主分类号 :
F41J1/00
IPC分类号 :
F41J1/00  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F41
武器
F41J
靶;靶场;弹头收集器
F41J
靶;靶场;弹头收集器
F41J1/00
靶;靶架;靶托
法律状态
2020-07-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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